美国警告阿斯麦：担忧先进EUV光刻机可能违规流入中国

美国商务部长霍华德·卢特尼克19日向荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）发出警告，称华盛顿高度关注一台先进的极紫外（EUV）光刻机可能违反出口管制而流入中国。卢特尼克已直接向阿斯麦高管提出这一问题。

阿斯麦对此作出强烈反驳。该公司明确表示：“我们从未向中国运送过EUV机器或任何EUV专用部件。”阿斯麦强调，其生产的巨型EUV系统体积约相当于一辆校车，重量高达180吨，所有设备均受到严格追踪和管控。

近年来，美国持续加强对先进半导体制造设备的出口限制，旨在遏制中国在高端芯片领域的技术突破。荷兰作为美国盟友，也对相关高端设备实施出口管制。卢特尼克的警告显示，美国政府正密切监控供应链的每一个环节，防止任何潜在的管制漏洞。

阿斯麦作为全球唯一能够量产EUV光刻机的企业，其设备是生产7nm及更先进制程芯片的核心装备，一直是中美科技博弈的焦点。该公司此前已多次公开表示，完全遵守荷兰和国际出口管制规定。

美国通过实体清单、出口许可等多重手段限制对华高技术出口，而中国则加速国产化替代步伐。双方在半导体领域的角力被视为影响全球科技格局和供应链稳定的关键变量。

目前，阿斯麦尚未披露更多关于此次警告的具体细节，但公司重申所有出货均符合相关法律法规，并将继续与美荷两国政府保持密切沟通。

（综合路透社等媒体报道整理）