观点网讯:近日,北方华创正式面向全球市场推出第三代12英寸全石英立式氮化硅低压化学气相沉积(LPCVD)设备SICRIUS SN302D Ⅱ。
该设备型号为SICRIUS SN302D Ⅱ,采用全石英设计,面向12英寸晶圆制造,属于立式氮化硅LPCVD设备,主要应用于存储、先进逻辑、硅光集成、高端传感器等高景气赛道。
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