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应用材料推全新EUV图案化技术：产线可减少2.5亿美元投资，每片晶圆成本可降低50美元！
应用材料强调，为协助芯片制造商在持续缩小设计之际，却不增加 EUV 双重图案化的成本、复杂性以及能源和材料消耗，应用材料已经与一流客户密切合作，开发出了 Centura Sculpta 图案化系统。 Centura Sculpta图案化系统的具体工作步骤如下： 1，先直接使用1次EUV包括，同时留下L/S线条图案及tip-to-tip图案； 2，通过Centura Sculpta图案化系统对tip-to-tip 而使用Centura Sculpta图案化系统，只需1次EUV曝光即可完成。 简单来说就是，原本需要两次EUV曝光才能完成的过程，现在借助应用材料公司的 Centura Sculpta图案化系统，就只需要一次EUV曝光就能完成。 英特尔将部署Centura Sculpta技术，以帮助我们降低设计和制造成本、流程周期时间和环境影响。” 编辑：芯智讯-浪客剑 综合自网络
55720编辑于 2023-03-24 面向高级AI计算，应用材料推出三款全新半导体设备
新的 Centura™ Xtera™ Epi 系统可在 2nm 及以上实现更高性能的 GAA 晶体管 影响当今最先进的 GAA 晶体管的性能和可靠性的最关键特征之一是形成晶体管通道的源极和漏极结构。 为了解决这一挑战并实现最大的芯片性能，应用材料公司开发了 Centura™ Xtera™ Epi 系统。
15810编辑于 2026-03-19- 来自专栏全栈程序员必看
关系型数据库的发展历史[通俗易懂]
在出售了自己的4%的股票之后，Scott 后来创建了Gupta公司（现更名为Centura Software）和PointBase公司（提供百分之百纯Java嵌入式数据库），都是开发和数据库相关的产品。
5.4K30编辑于 2022-09-13
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